杨成刚，男，彝族，1965 年10月生，贵州大方县人，1989年毕业于贵州大学物理系半导体物理与器件专业，学士学位，高级工程师，PMP。

• 中文名称 杨成刚
• 民族 彝族
• 出生地 贵州大方县
• 出生日期 1965
• 性别 男

个人简介

　　在校期间，连年被评为校级三好学生。毕业后，分配到中国振华电子工业公司国营第四四三三厂工作，主要从事半导体集成电路和混合集成电路方面的科研工作。进厂后，他致力于光刻工艺的研究，采用直接光刻工艺代替机械掩模蒸发工艺，进行分步光刻选择刻蚀来形成薄膜无源网络，其最小间距或带宽可达10um左右，使集成度大大提高，适用于大批量生产，为后来的高尖端新产品的研制和生产奠定了基础。曾参与该厂军工器件FX0032超高速FET运算放大器、FX0002电流放大器、FX8510功率运算放大器、FH8048对数放大器、FX3290BiMOS双电压比较器等的研制，并取得成功。

代表性论文

　　《半导体热敏电阻的温敏特性在对数放大器中的应用》《阳极氧化铝工艺在薄膜混合集成电路中的应用》《 Ni-Cr薄膜电阻在对数放大器中的应用》、《FX3290BiMOS双电压比较器的研制》《铝导带薄膜混合集成电路工艺的研究》等。

获奖荣誉

　　1995年被贵州省国防工业工会和贵州省国防科技工业办公室评为"1994年度企业走向市场立功竞赛先进个人"荣誉。

　　所承担的科研项目《100MHZ高频宽带集成运算放大器》于2000年荣获贵州省科技进步三等奖。

　　截至2012年，在集成电路领域拥有多个发明专利和实用新型专利。在企业管理、流程管理、品质管理、研发管理、项目管理、微电子技术等领域具有一定的专长。